![ASMLの最先端半導体製造装置、高過ぎる-TSMCの購入時期不明](https://cdn-ak-scissors.b.st-hatena.com/image/square/77925f7779287a1e17bff4b3d8f991cd430bbcf6/height=288;version=1;width=512/https%3A%2F%2Fassets.bwbx.io%2Fimages%2Fusers%2FiqjWHBFdfxIU%2Fi56_9eLPgah0%2Fv0%2F1200x800.jpg)
Employees at the ASML Holding NV factory in Veldhoven, Netherlands, in 2014. Photographer: Jasper Juinen 米政府はオランダの半導体製造装置メーカー、ASMLホールディングが主要装置を中国に販売するのを禁止するようオランダ政府に強く求めている。事情に詳しい複数の関係者が明らかにした。半導体産業での中国の台頭を抑える米政府の取り組みが拡大している。 関係者によれば、ASMLに旧式の深紫外線(DUV)露光装置を一部販売させないよう米当局者がオランダ当局に働き掛けている。こうした装置は最先端品からすると一世代前に属するが、自動車や電話、コンピューター、ロボットなどに必要な汎用半導体の一部製造ではなお最も一般的に使われている。 ASMLは最先端の極端紫外線(EUV)リソグラフィーシステムについては
Inside the machine that saved Moore's Law 「ムーアの法則」救う 世界唯一のEUV装置企業 ASMLの苦難と挑戦 誰もが「ムーアの法則」の行き詰まりを感じていた中で、オランダの企業ASMLは90億ドルと17年をかけて、不可能と見られていた極紫外線によるリソグラフィー装置を完成させ、チップのさらなる高密度化への道を開いた。 by Clive Thompson2021.11.17 25 5 29 パトリック・ウィランは、身につけたクリーンスーツのフェイスプレート越しに事の成り行きを見ていた。 この記事はマガジン「世界を変えるイノベーター50人」に収録されています。 マガジンの紹介 目の前にあるのは輝くガラスのかたまりだ。大きさはオーブントースターほどで、軽量化のため所々がくりぬかれた外観はエイリアンのオブジェを思わせる。ウィランのチームはコーヒーテーブル
ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に:「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に(1/2 ページ) ASMLが、新しいEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 ASMLが、新しいEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 2023年前半には提供予定
ASMLは9月29日(現地時間)、投資家向けイベントをオンラインで開催し、2030年に向けた長期売上高計画および装置ロードマップについての説明を行った。 それによると、同社は2025年の年間売上高をこれまでの150億~240億ユーロから、約240億~300億ユーロ(約3兆9000億円)へと大幅に上方修正したという。また、2025年時点の粗利益率も直近の51%から54%~56%へと向上すると予測しているほか、2030年までの10年間については約11%の年平均成長率を想定しているとしている。 ASMLの社長兼CEOのPeter Wennink氏は、「非常に収益性が高く、革新的なエコシステムに支えられたエレクトロニクス業界の世界的なメガトレンドは、半導体市場全体の成長を後押しし続けることが期待されている。半導体の最終市場の成長とリソグラフィ分野への設備投資の増加が、ASMLの製品とサービスの需要
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