世界最大手の最新装置故障で 半導体製造復活狙う日本勢
inside Enterprise 日々刻々、変化を続ける企業の経営環境。変化の中で各企業が模索する経営戦略とは何か?ダイヤモンド編集部が徹底取材します。 バックナンバー一覧 最新のＥＵＶ︵極端紫外線︶露光装置が故障した──。2月下旬、米カリフォルニア州で開催された国際光工学会。次世代の半導体製造技術の動向に注目する参加者の間で“隠れた大ニュース”になったのは、半導体製造大手、台湾TSMCの幹部の言葉だった。 半導体の微細化が限界に近づく中、ＥＵＶは次世代技術の本命とされてきた。半導体露光装置で世界シェア約8割のオランダASMLが巨費を投じて実用化に邁進。キヤノンとニコンはすでに開発を断念しており、ＥＵＶが主流になれば、ASMLは最新の露光装置の需要を“総取り”できる。 トラブルを起こしたASMLのＥＵＶ露光装置は、初の量産機としてTSMCに納入されたもの。だが、試作中にトラブルが起き、レ
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