[B! asml] kiyo_hikoのブックマーク

kiyo_hiko id:kiyo_hiko

asmlに関するkiyo_hikoのブックマーク (7)

Intel史上最も驚異的なマシン「EUVシステム」の裏側を追ったムービーが公開中
Intelが、﹁Intelの中で最も精密で複雑なマシン﹂と言われる﹁EUVシステム﹂に迫ったムービーを公開しています。EUVは、近年﹁限界を迎えつつある﹂と指摘されるムーアの法則を追求するための技術。Intelが何をしようとしていて、EUVシステムはどのようなマシンなのかが、ムービーで映し出されています。 EUV: The Most Precise, Complex Machine at Intel https://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/news/euv-most-precise-complex-machine.html Behind this Door: Learn about EUV, Intel’s Most Precise, Complex Machine - YouTube 21年間、Intelの製品や製品を作り出す驚く
kiyo_hiko 2023/08/29
ASML TWINSCANがじゃんじゃん並んでるのしゅごい

semicon

EUV

ASML

intel
リンク
ニコン利益半減､いったい何があったのか
いい感じに展開していたが、最後にシュートが決まらなかった――。ニコンの牛田一雄社長は2月5日の記者会見の場で、今期2度目の下方修正に対してこうコメントした。ニコンの2015年第3四半期累計(2014年4～12月)は、売上高が6178億円（前年同期比15.7%減）、営業利益が267億円（同32.1%減）、純利益が167億円（同55.4％減）で着地。これを受けて通期の売上高見通しを前回予想から400億円減の8600億円(前年同期比12.3%減)、営業利益見通しを170億円引き下げて360億円(同42.8%減)とした。カメラと半導体露光装置がダブルで不振ニコンは2014年8月にも営業利益予想を630億円から530億円へと100億円引き下げている。前回の修正要因はカメラ事業の不振だったが、今回はそれに加えて半導体露光装置（ステッパー）事業が大幅下方修正の要因となった。セグメント別に見ると、
kiyo_hiko 2015/02/12
nikon

asml
リンク
Focus 半導体業界《日本半導体/製造装置メーカーの共進化/共退化現象②》露光装置シェアトップのASML その強さの源泉は速度と稼働率㈱エフエーサービス半導体事業部技術主幹湯�
Focus 半導体業界︽日本半導体/製造装置メーカーの共進化/共退化現象②︾露光装置シェアトップのASMLその強さの源泉は速度と稼働率㈱エフエーサービス半導体事業部技術主幹湯之上隆露光装置の分野で、ニコンおよびキヤノンに代わって、蘭ASMLが世界シェアトップに立った。 ASMLは、特に韓国・台湾では圧倒的なシェアを占めている。韓国・台湾半導体メーカーは、スループットおよび稼働率に関する高い水準を要求し、ASMLはその要求に応える装置を開発した。まず、ASMLは、i線からArF液浸まで、4種類の露光装置に共通なプラットフォームを考え出した。また、各露光装置を、モジュールに分割することにより、装置の機差を最小限にすることに成功した。これにより、圧倒的なスループットと稼働率を実現している。ASMLは、次世代EUVL開発においても、﹁価格がArF液浸の2倍なら
kiyo_hiko 2014/03/30
「恐らく、ASMLはトヨタ自動車のセル生産方式を採用していると思われる。また、露光装置を、土台、ステージ、レンズ系、光源などのモジュールに分割している。各モジュールは、専門の外部メーカーが製造する」

半導体

リソグラフィー

pdf

asml

nikon

canon
リンク
EUVは本当に実用化できるのか？
半導体製造技術のロードマップでは、193nmリソグラフィに限界が来たら、157nmフォトリソグラフィへと移行するはずだった。しかし、実際に普及したのは193nmの液浸リソグラフィであった。次の技術として名前が挙がるのはEUVだが、﹁この技術が実際に商業用途で利用されるかどうかは定かではない﹂と指摘する声がある。半導体製造技術のロードマップでは、193nmリソグラフィ︵波長が193nmのレーザーを使用したリソグラフィ技術︶に限界が来たら、157nmフォトリソグラフィへと移行するはずだった。 Texas Instruments︵TI︶でフロントエンドプロセッシング担当マネージャを務めるJim Blatchford氏は、かつて、最先端の157nmフォトリソグラフィに関する交渉をまとめた経験がある。しかし、同氏は、当時まだ実証されていなかったこの技術について不安を抱いていた。そのため、SPIE︵
kiyo_hiko 2013/03/18
asml

euv

nikon

stepper
リンク
第146回 Intelの出資が半導体製造技術を2年間前倒しする？
Intelが、露光装置製造会社の最大手﹁AMSL﹂に対して研究開発資金を提供すると発表。Intelの出資で半導体製造技術が2年前倒しされる？連載目次 Intelが、オランダのAMSLに対して研究開発資金を提供すること、そして株式の購入を約束することに関するニュースリリースが流れてきた︵インテルのニュースリリース﹁インテルコーポレーションと AMSL、次世代半導体製造の中核技術の開発促進で合意﹂︶。新しいプロセッサの発表でもないので、一般の消費者を念頭においた派手なニュースリリースではない。淡々と合意した金額を述べることが主体の、地味な、しかし投資家や規制当局の承認を得るために必要不可欠な類の公表である。Intelといえば、あちらこちらの会社に投資や買収をしてきているので、1件1件の投資案件をいちいちフォローすることもないだろうと思うかもしれない。しかし今回のニュースリリースからは、今後
kiyo_hiko 2012/08/31
intelだけじゃなくてTSMCとかSumsungとかにも話をしてたのか

asml

intel

tsmc

半導体

fab
リンク
ついに立ち上がるEUV露光 - 日経エレクトロニクス - Tech-On！
13.5nmと非常に短い波長を用いる次世代露光技術のEUV︵extreme ultraviolet︶。22nm世代以降の最先端半導体の製造に向けて，研究開発が進められている技術です。このEUV露光技術は，極めて短い線幅の半導体を実現できるため，﹁究極の露光技術﹂とされてきました。その一方で，既存の露光技術に比べて，量産化に向けた技術障壁が格段に上がるため，これまでは﹁夢﹂の技術の域を出ませんでした。その技術障壁の高さは，従来の露光技術に比べて，光源波長がケタ違いに短くなることに表れています。1980年代以降，露光装置の光源の種類は，波長436nmのg線，同365nmのi線，同248nmのKrFレーザ，同193nmのArFレーザと，波長を徐々に短くしながら進化してきました。現在，最先端の半導体製造には液浸のArFレーザ装置が使われています。これがEUV露光に切り替わることは，波長がケタ違いに
kiyo_hiko 2012/02/14
436nmのg線 > 365nmのi線 > 248nmのKrF > 193nmのArF > 13.5nmのEUV

asml
リンク
半導体露光装置シェアの6割を獲得 - 躍進するASML
90年代、半導体露光装置業界で圧倒的なシェアを握っていたのはニコンとキヤノンであった。Gartnerの2007年4月の発表資料によると、1996年にはニコンが5割弱、キヤノンが2割5分ほどのシェアを獲得しており、この2社で7割ものシェアを握っていた。このときオランダのASMLのシェアは2割。ニコンとキヤノンの後塵を拝していた。ところがそれから10年後の2006年、ASMLのシェアは6割強に達し、名実ともに世界一の半導体露光装置メーカーとしての地位を確立した。10年前とは様相が一変している半導体露光装置業界。現在のリーディングカンパニーであるASMLに、その強さの秘密と今後の展開について取材した。露光装置シェア躍進の鍵 - ﹁デュアルウェハー﹂と﹁液浸﹂ ASML BVはオランダのPHILIPSから1984年に分社独立、本社はオランダのフェルトホーヘンにある。従業員数は全世界で約6000名
kiyo_hiko 2012/02/07
「できるだけ外部に開かれた開発体制を作り、そこで密接なコミュニケーションを取る」

industry

asml

strategy

company
リンク
1