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電子立国日本の自叙伝

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』

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LD
第1回 新・石器時代 ~驚異の半導体産業~
  1. オープニング
  2. 解説:半導体とは何か
  3. 珪石二酸化シリコンの採掘
  4. 粉末シリコンの生成過程
  5. 解説:粉末シリコン
  6. 超高純度シリコンの生成過程
  7. 解説:多結晶シリコンと単結晶シリコン
  8. 単結晶棒の引き上げ過程(日本シリコン(現SUMCO)生野工場)
  9. 単結晶棒からシリコンウェハー
  10. 解説:シリコンチップの構造
  11. シリコンウエハー表面へのトランジスタのつくり込み過程
  12. 半導体の大量生産・三菱電機西条工場(現ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング西条工場)の概要
  13. 解説:空気フィルター
  14. ナトリウム除去のシステム
  15. クリーンルームでのトランジスタ製造工程
  16. シリコンチップの切り離し・金線接続樹脂封入・検査工程
  17. 結び
  18. 次回予告~エンディング
第2回 トランジスタの誕生
  1. オープニング
  2. 解説:真空管からトランジスタへ
  3. 点接触型トランジスタの発明
  4. 解説:点接触型トランジスタのしくみ
  5. 敗戦日本のパイオニアたち
  6. 鳩山トランジスタの再現
  7. 黄鉄鉱を使っての実験
  8. ゲルマニウムの生成 ゾーン・リファイニング技術
  9. 解説:単結晶について
  10. 単結晶引き上げの成功
  11. 日本における単結晶引き上げの研究
  12. バケツを利用したゲルマニウム純化装置
  13. 点接触型トランジスタから接合型トランジスタへ
  14. 解説:接合型トランジスタのしくみ
  15. 接合型トランジスタから成長型トランジスタ合金型トランジスタ
  16. トランジスタと戦後日本の技術者達
  17. 当初のゲルマニウム切断技術
  18. 渡米した日本技術者
  19. 日本における量産型ゲルマニウム・単結晶の生成
  20. ゲルマニウムの需要
  21. 合金型トランジスタ用自動ボンディング装置
  22. 解説:日本のトランジスタ産業
  23. 日本初のトランジスタラジオができるまで
  24. トランジスタラジオの量産
  25. 石炭排ガス液からのゲルマニウム抽出
  26. 結び
  27. 次回予告~エンディング
第3回 石になった電気回路
  1. オープニング
  2. 解説:SAGEを構成した真空管モジュールとICの体積比較
  3. トランジスタガール~歩留まりとの闘い
  4. ゲルマニウム~湿度の克服
  5. 解説:ゲルマニウムからシリコンへの移行
  6. 偶然による酸化膜の発見
  7. 解説:シリコン結晶製造の4つの方法
  8. 太陽電池の製造方法として利用されたガス拡散法
  9. 高純度シリコン製造(四日市・高純度シリコン社(現三菱マテリアル))
  10. 解説:イレブンナインのシリコン
  11. イレブンナインのシリコンへの挑戦(水俣・チッソ
  12. 解説:舶来シリコン崇拝
  13. シリコンバレーウィリアム・ショックレーと若き研究者たち
  14. 裏切りの若者たちフェアチャイルド社設立
  15. メサ型トランジスタの構造と製造過程
  16. メサ型からプレーナー型トランジスタ
  17. プレーナ型トランジスタの構造
  18. 解説:ジャック・キルビー集積回路ロバート・ノイスの集積回路
  19. 電子部品の小型化の推進力となったロケット開発
  20. 解説:ミニットマンミサイル用のコンピュータと空軍
  21. 国産初の集積回路
  22. 低温表面処理技術(プレーナ型特許への対抗から生まれた新たな技術)
  23. アポロ11号を支えた超小型誘導コンピューターシステム
  24. アメリカの電子技術会議に殺到した日本人
  25. 結び
  26. 次回予告~エンディング
第4回 電卓戦争
  1. オープニング
  2. 解説:電卓の歴史~手動式計算機・電動式計算機・リレー式計算機
  3. 解説:2進法による仕組み
  4. 電卓開発の時代背景と各社から発売された電卓
  5. 電子計算機をめぐる各社の競争~関係者の証言
  6. リレー式計算機からトランジスタ計算機への転換
  7. 解説:集積回路の軍事、宇宙用から民生化への流れ
  8. アメリカでのポケット型電卓の開発・関係者の証言と当時の電卓・演算用IC
  9. 日本のポケット型電卓の開発・関係者の証言
  10. 解説:ICの集積度競争~MOS型トランジスタ
  11. 解説:MOS型トランジスタの歩留まり悪化の苦闘と克服
  12. 電卓用MOSLSIの開発
  13. 解説:4相レシオレスMOS回路の論理
  14. 電卓用MOSLSI(ロックウェル社)の完成
  15. 電卓戦争本格化・関係者の証言と各社のCM
  16. 電卓用ワンチップLSIとマイコンを使った電卓の登場
  17. 電卓の低価格化への挑戦
  18. 解説:新技術の開発~液晶電卓の登場
  19. 工場の大型化と導入技術の多様化
  20. 結び
  21. 次回予告~エンディング
第5回 8ミリ角のコンピューター
  1. オープニング
  2. 解説:マイクロコンピューターの仕組み(RAM、ROM、CPU)
  3. フェアチャイルド神話の崩壊とインテル社設立
  4. 解説:メモリーとは~コアメモリーと半導体メモリー
  5. LSIによるストアード・プログラム式電卓の開発
  6. 解説:ソフトプログラムで駆動する電卓の回路図
  7. マクロからマイクロな命令~マイクロプロセッサの発想へ
  8. 解説:テッド・ホフの電卓回路図
  9. 世界初のマイクロプロセッサ誕生~インテル4004
  10. マイクロプロセッサ輸入で直面した障害
  11. インテル4004のシミュレーション・テスト
  12. 日常生活へ広がるマイクロプロセッサの製品
  13. 8ビット・マイクロプロセッサの登場~インテル 8080ミューコム8
  14. 解説:半導体チップ法、回路配置法
  15. 筑波学園都市・インテルジャパン社の作業システム
  16. 16ビット・マイクロコンピューターの全貌~インテル87C196MD
  17. 解説:メモリー・チップとマイクロプロセッサの顕微鏡映像
  18. 解説:マイクロプロセッサ日本製応用商品~結び
  19. 次回予告~エンディング
第6回 ミクロン世界の技術大国
  1. オープニング
  2. 半導体工場の賀詞交換会のもよう
  3. セミコンウェストショー(シリコンバレー)
  4. 日本の初期半導体産業を支えた周辺技術(西ケ原・高橋精機)
  5. 生産ラインの機器確保・関係者の証言
  6. 厚さ5ミクロンのダイヤモンドカッターとその製造過程(ディスコ社
  7. 解説:リードフレーム
  8. 半導体・日米技術の競合(セミコンウェストショー)
  9. 解説:キャピラリを使ったボンディング技術(キューリック&ソファ社
  10. マイコン使用のボンディング装置(新川社
  11. 超LSIとゴミとの闘い
  12. 解説:ゴミの正体・空気中のナトリウム
  13. 解説:超クリーンフィルターの濾材
  14. ウエハを洗浄する水・超純水
  15. 解説・超純水とは~イオン交換樹脂による製造法
  16. 半導体工場の排水処理~シリコンバレー地区の地下水汚染地図
  17. 水の循環使用(NMBセミコンダクター館山工場)
  18. ステッパー(回路図面転写装置)のしくみ
  19. 電子ビームが描く幅1.5ミクロンの線
  20. 各地の工場での振動対策(富士通中八番工場、九州日本電気(現ルネサス セミコンダクタ九州・山口)))
  21. アメリカと日本のIC生産ラインの比較
  22. 毎年恒例の「超LSI技術研究組合共同研究所」の同窓会のもよう
  23. アメリカ版技術研究組合(SEMATECH
  24. ロバート・ノイスの葬儀参列者の弔辞
  25. ロバート・ノイスの日本批判
  26. 結び・エンディング

脚注[編集]

注釈[編集]

  1. ^ 当初の企画では、第2~5回の4回分を構想していたが、D-RAM工場や各企業の協力を得て第1回と第6回を追加した。
  2. ^ 当初は本番組の意義に懐疑的だった三菱電機が議論の末に西条工場の内部公開に応じたことから第1回を追加した旨が関連書籍で述べられている。
  3. ^ 当初は3巻の予定だったが掲載内容が増加して1巻増えた関係で、3巻時代の名残で前・中・後・完結と各巻が振られている。
  4. ^ セミコンウエストショーの取材シーンでの展示品の取材を拒否したメーカーのシーンと、超LSI技術研究組合共同研の同窓会の一部シーンをカット。

出典[編集]

関連項目[編集]

外部リンク[編集]